ナノスケール加工・観察・分析実習教育システム 一式
入札情報
- 品目分類：24
- 種別：意見招請
- 調達方法 購入等
- 導入予定時期 平成25年度11月以降
- 調達に必要とされる基本的な要求要件Ａ 集束イオンビームを照射して試料の表面や断面を加工しながら、同時に走査電子顕微鏡観察をできること。Ｂ 走査透過電子顕微鏡観察をできること。Ｃ 電子顕微鏡観察用の電子源はショットキーエミッション形の電子銃であること。Ｄ 電子線照射によって発生する特性Ｘ線を検出し、そのエネルギーと強度から観察面を構成する元素の種類と濃度を分析できること。Ｅ 電子線後方散乱回折法により、観察面の結晶方位を分析できること。Ｆ 集束イオンビーム加工によって観察試料より微細試料を採取し、既設の透過電子顕微鏡、ならびに既設の走査電子顕微鏡で観察するための試料台に固定できること。Ｇ 集束イオンビーム加工によって採取し、固定された微細試料を大気に曝すことなく、既設の透過電子顕微鏡、ならびに走査電子顕微鏡で観察できること。
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